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ALD原子层沉积系统

发布者: [发表时间]:2022-08-26 [来源]: [浏览次数]:

仪器型号:MNT-S100-L3S2

生产厂家:迈纳德

主要规格和技术参数

1、设备本底真空为0.67 Pa,加热方式为电阻丝加热,设备从室温加热到100度,用时为30m分钟;

2、反应腔体材质为316 L,漏率≤5×10-10Pa·m3/s,腔体表面镜面抛光后电解;

3、样品台尺寸φ100 mm,标准4英寸平面腔体,高19 mm,样品台加热温度最高400oC;

4、精度:原子层沉积原理上说,每个Cycle生长小于一个原子层的厚度,例如Al2O3,一个Cylce生长约0.11 nm。

5、配备6路金属前驱体源输送管路,常温源1路,加热源2路,载气辅助源2路,预留1路,配备载气管路和质量流量控制器;

6、ALD专用阀门(品牌Swagelok)为自带吹扫功能的三孔阀,响应时间小于5 ms;

7、真空泵采用双级油封式真空泵,抽速≥14 m3/h,本底真空0.5 x 10-3Torr;

8、配备进口压力传感器,检测范围:1000-2.3 x 10-4Torr,并配备真空计保护阀门;

9、界面操作界面支持历史数据、报警日志以及配方的导入导出功能;

10、系统中所有ALD阀门以及真空阀配备电磁阀,电磁阀响应时间< 3 ms,带过电压保护回路,带动作指示灯。

主要功能及特色:该设备主要用于沉积氧化物、氮化物及金属薄膜,进一步用于半导体器件、微米纳米颗粒功能性包裹和生物传感器等研究。

适用于材料物理与化学、生物医学、应用化学、药物分析、医学检测、微电子、生物传感技术等。

主要附件及配置

预约网址:http://202.113.64.51/genee/