仪器介绍

原子层沉积（ALD）系统，是一种基于原子层沉积技术，用于在基底表面逐层沉积单原子层超薄膜的气相沉积设备，广泛应用于半导体制造、光伏、新能源、显示技术、光学与MEMS、锂电池、催化与纳米材料及生物医疗等领域。

工作原理

      原子层沉积（ALD）是一种基于自限制表面化学反应的薄膜沉积技术，其核心原理是通过气相前驱体交替通入反应腔，在基底表面进行顺序性的饱和化学反应，实现原子层级别的逐层生长。